微纳(香港)科技有限公司
首页 > 产品中心 > 半导体行业专用仪器 > CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光机
产品详情
CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光机
CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光机的图片
参考报价:
面议
品牌:
关注度:
935
样本:
暂无
型号:
产地:
韩国
信息完整度:
典型用户:
暂无
索取资料及报价
认证信息
高级会员 第 2
名 称:微纳(香港)科技有限公司
认 证:工商信息已核实
访问量:36102
手机网站
扫一扫,手机访问更轻松
产品分类
公司品牌
品牌传达企业理念
产品简介

**、产品简介:

韩国CTS公司的AIP300CMP抛光机是一款12寸工业级CMP系统,可兼容4寸,6寸,8寸,12寸样品,可用于工厂及小批量量产。

第二、产品主要特色:

1CMP抛光头:采用气囊加载模式,5区压力独立控制,可得到良好的工业级抛光效果;

2、自动上下片,自动抛光,干进干出;

3、抛光垫修整器:摆臂式设计,由13个传感器分别控制13个区域的下压力,可保证抛光垫高水平修整;

4、抛光垫修整器:具有在线修整与离线修整两种模式;

5,工艺数据可实时监测;

6、可存储多个Recipe

7带两个手臂及自动双面清洗设备

第三、核心技术参数:

抛光头

兼容4寸,6寸,8,12

抛光头摆动范围

±15mm

抛光头转速

0-200rpm

抛光头加压方式

气囊柔性加压背压功能(-区加压)

抛光头压力范围

0.14-14 psi

抛光盘尺寸

20英寸

抛光盘转速

0-200 rpm

蠕动泵

2

抛光液流速

20-500 cc/min

抛光垫修整器分区

13

抛光垫修整器在线扫描速度

10sweeps/min

抛光垫修整器下压力

3-20lbs

抛光垫修整器转速

0-150rpm

CMP后片内非均匀性WIWNU

1sigma,去边5mm

< 5%

CMP后片间非均匀性WTWNU

1sigma,去边5mm

< 3%

仪器尺寸

1000×2030×2100(W× L× H, mm)

冷却系统

包含

四,应用实例:

?CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜,STI

?工艺开发可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发

  • 推荐产品
  • 供应产品
  • 产品分类
我要咨询关闭
  • 类型:*     
  • 姓名:* 
  • 电话:* 
  • 单位:* 
  • Email: 
  •   留言内容:*
  • 让更多商家关注 发送留言