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光学仪器及设备
Alpha300RA拉曼与原子力联用系统
WITEC RISE拉曼成像与扫描电子显微镜联用系统
共聚焦拉曼显微镜
Park HIVAC真空原子力显微镜
Park NX20原子力显微镜
Park XE15原子力显微镜
Park NX12生物原子力显微镜
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Park NX10原子力显微镜
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测量/计量仪器
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HS2000型光学轮廓仪仪
NANOVEA公司ST400型光学轮廓仪
NANOVEA公司PS50型三维表面形貌仪
JR25便携式三维表面形貌仪
半导体行业专用仪器
NanoMaster SWC-4000型CMP后清洗机
CTS AIP300型全自动CMP化学机械抛光机
CTS AP300型CMP化学机械抛光机
CTS AP200型CMP化学机械抛光机
比表面积测定仪
PB1000-BASIC型微米划痕仪
CB500-BASIC型微米压痕仪
CB500型纳米压痕仪
PB1000型纳米划痕仪
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TLTECH Real RTP 150快速退火炉
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试验机
T2000型多功能摩擦磨损试验机
T50型多功能摩擦磨损试验机
T100型多功能摩擦磨损试验机
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产品系列
产品简介:
HS2000型三维表面形貌仪是一款全球**速的三维形貌仪,采用白光共聚焦线光源技术,可实现对材料表面从纳米到毫米量级的粗糙度超快测试,具有测量精度高,速度快,重复性好的优点,该仪器可用于测量大尺寸样品,并具有多种选项,包含360°旋转工作台,原子力显微镜模块,光学显微镜,特征区域定位等多种功能模块。
产品原理:采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
- 利用白光点光源,光线经过透镜后产生色差,不同波长的光分开后入射到被测样品上。
- 位于白光光源的对称位置上的超灵敏探测器系统用来接收经被测点漫反射后的光。
- 根据准共聚焦原理,探测器系统只能接收到被测物体上单点反射回来的特定波长的光,从而得到这个点距离 透镜的垂直距离。
- 再通过点扫描的方式可得到一条线上的坐标,即X-Z坐标
- *后以S路径获得物体每个点的三维X-Y-Z坐标
- *后将采集的三维坐标数据交给专业的三维处理软件进行各种表面参数的分析。
- 软件能够自动获取用户关心的表面形貌参数。
产品特性:
- 采用白光共聚焦色差技术,可获得纳米级的分辨率
- 测量具有非破坏性,测量速度快,精确度高
- 测量范围广,可测透明、金属材料,半透明、高漫反射,低反射率、抛 光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…);
- 尤其适合测量高坡度高曲折度的材料表面
- 不受环境光的影响
- 测量简单,样品无需特殊处理
- Z方向测量范围大:为27mm
主要功能:
-可创建任意区域的2D曲线图或2D等高线分布图;
- 可创建任意区域的3D图像;
- 自动得到样品的一维线粗糙度参数(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc,Rt,Rq,Rsk,Rku);
- 自动得到样品的二维面粗糙度(Sa,Sp,Sq,Sv,Sz,Ssk,Sku);
- 可得到样品的平整度,波纹度等参数;
- 自动校准功能,例如粗糙度,一般情况下对于曲面样品,首先展平,然后自动给出粗糙度的参数;
- 具有尺寸测量:长度,宽度,角度,深度,台阶高度;
- 可测孔洞磨损面积,磨损体积等参数;
- 具有功率谱密度测试功能;
- 具有分形统计功能;
......
主要技术参数:
- XY全自动**扫描范围:500×400(mm)
- XY扫描步长:0.1μm
- **扫描速度:500mm/s
- Z方向**测量范围:27mm
- Z方向测量分辨率:2nm
产品应用:
MEMS、半导体材料、太阳能、摩擦磨损、汽车、腐蚀、砂纸、岩石等。